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CUBIT Co., Ltd.
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  • 사업분야
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    반도체 공정중 확산막 형성에 사용되는 장비로 절연 산화막 형성, LAPCVD 등 장시간 고온 열처리 장비

    LAPCVD 300mm Tools

    반도체 공정중 확산막 형성에 사용되는 장비로 절연 산화막 형성, LAPCVD 등 장시간 고온 열처리 장비

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    SPUTTERING SYSTEM

    Cluster/In-line Sputtering System
    Al, Ti, Cu, Sus, Mo, ITO, SiO2, TiO2, SiN, CrOx, ZnO, AZO
    Thickness Uniformity : < ±5
    Uniformity of RTR : < ±3%
    Heat uniformity : <± 3%
    Power Supply : DC, Pulsed DC, RF
    EtherCAT Control

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