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    반도체 공정중 확산막 형성에 사용되는 장비로 절연 산화막 형성, LAPCVD 등 장시간 고온 열처리 장비

    LAPCVD 300mm Tools

    반도체 공정중 확산막 형성에 사용되는 장비로 절연 산화막 형성, LAPCVD 등 장시간 고온 열처리 장비

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    AGC

    303I, INDY, INDY+, FORMULA
    CX3000, CX5000
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