LAPCVD 200mm Tools 1 페이지

사업분야

LAPCVD 200mm tools

사업분야

반도체 공정중 확산막 형성에 사용되는 장비로 절연 산화막 형성, LAPCVD 등 장시간 고온 열처리 장비

LAPCVD 200mm Tools

반도체 공정중 확산막 형성에 사용되는 장비로 절연 산화막 형성, LAPCVD 등 장시간 고온 열처리 장비

Brand New Refurbish Installation Modify Parts sale Repair Overhaul

	Cluster/In-line Sputtering System
	Al, Ti, Cu, Sus, Mo, ITO, SiO2, TiO2, SiN, CrOx, ZnO, AZO
	Thickness Uniformity : < ±5
	Uniformity of RTR : < ±3%
	Heat uniformity : <± 3%
	Power Supply : DC, Pulsed DC, RF

	TEOS, POLY, SiN, HTO, OXIDE, ANNEAL
	MAX 21 BUFFER
	HIGH SPEED CONTROL(EtherCAT)
	NEXP GENERATION GC
	LOW, MID, HIGH TEMP

큐빛은 지속적으로 200mm Tools 연구 개발하고 있습니다.